检索条件: Lithography : ( 题名 )
责任者 Landis, Stefan.
出版信息 ISTE ; ,2011.
ISBN 9781848212022 (hardback) :
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Lithography : main techniques /
Landis, Stefan..ISTE ;,2011..
责任者 R. Newman
出版信息 North-Holland ,1980
ISBN
Fine line lithography
R. Newman.North-Holland,1980.
责任者
出版信息 Shanghai Post Office Box ,4060 p.
Selected Papers on Electron-Beam Lithography
.Shanghai Post Office Box,4060 p..
责任者 Thomas, Edwin L.
出版信息 Wiley-VCH, ,c2009.
ISBN 978-3-527-31999-2 (hbk.)
Periodic materials and interference lithography for photonics, phononics and mechanics /
Thomas, Edwin L..Wiley-VCH,,c2009..
责任者 Professional Group E3 , E13 and S2,Colloquium on Electron Beam Lithography-The Impact on Microelectronics
出版信息 IEE ,1980
Colloquium on Electron Beam Lithography-The Impact on Microelectronics (1980)
Professional Group E3 , E13 and S2,Colloquium on Electron Beam Lithography-The Impact on Microelectronics.IEE,1980.
责任者 李涤尘,曹毅,连芩
出版信息 国防工业出版社 ,2021
ISBN 978-7-118-12408-8
光固化增材制造技术
李涤尘,曹毅,连芩.国防工业出版社,2021.
责任者 韦亚一
出版信息 电子工业出版社 ,2021
ISBN 978-7-121-40226-5
计算光刻与版图优化
韦亚一.电子工业出版社,2021.
责任者 李涤尘,连芩,卢秉恒
ISBN 978-7-118-12434-7
陶瓷光固化增材制造技术
李涤尘,连芩,卢秉恒.国防工业出版社,2021.
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