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1 图书 Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics: symposium held April 23-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A
责任者 Oehrlein, G. S.

出版信息 Cambridge University Press ,2014

ISBN 978-1-107-41315-3

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Oehrlein, G. S..Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics: symposium held April 23-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A.Cambridge University Press,2014.
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Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics: symposium held April 23-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A

Oehrlein, G. S..Cambridge University Press,2014.
2 图书 Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics--2004 : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A /
责任者 Carter, R. J.

出版信息 Materials Research Society, ,2012.

ISBN 978-1-107-40922-4 (pbk.)

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Carter, R. J..Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics--2004 : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A /.Materials Research Society,,2012..
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Materials, technology, and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics--2004 : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A /

Carter, R. J..Materials Research Society,,2012..
3 图书 High-k gate dielectrics for CMOS technology /
责任者 He, Gang,Sun, Zhaoqi

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ISBN 9783527330324 (hbk.)

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He, Gang,Sun, Zhaoqi.High-k gate dielectrics for CMOS technology /.,.
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High-k gate dielectrics for CMOS technology /

He, Gang,Sun, Zhaoqi.,.
4 图书 Dielectric materials and electrostatics /
责任者 Olivier Gallot-Lavallée.

出版信息 ISTE Ltd ; ,2013.

ISBN 9781848216044 (hbk.) :

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Olivier Gallot-Lavallée..Dielectric materials and electrostatics /.ISTE Ltd ;,2013..
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Dielectric materials and electrostatics /

Olivier Gallot-Lavallée..ISTE Ltd ;,2013..

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