检索条件： 光刻设备 ( 主题词 )
责任者 伍强
出版信息 清华大学出版社 ,2020
ISBN 978-7-302-53742-7
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衍射极限附近的光刻工艺
伍强.清华大学出版社,2020.
责任者 王向朝,戴凤钊
出版信息 科学出版社 ,2020
ISBN 978-7-03-065792-3
集成电路与光刻机
王向朝,戴凤钊.科学出版社,2020.
责任者 爱德曼
出版信息 化学工业出版社 ,2023
ISBN 978-7-122-43276-6
半导体先进光刻理论与技术
爱德曼.化学工业出版社,2023.
责任者 国家知识产权局学术委员会
出版信息 知识产权出版社 ,2022
ISBN 978-7-5130-8195-5
产业专利分析报告．第84册，高端光刻机
国家知识产权局学术委员会.知识产权出版社,2022.
责任者 魏劲松
出版信息 清华大学出版社 ,2022
ISBN 978-7-302-60745-8
激光热敏光刻：原理与方法：principle and method
魏劲松.清华大学出版社,2022.
出版信息 科学出版社 ,2021
ISBN 978-7-03-067355-8
光刻机像质检测技术．下册
王向朝,戴凤钊.科学出版社,2021.
ISBN 978-7-03-067354-1
光刻机像质检测技术．上册
责任者 雷吉梅克
出版信息 人民邮电出版社 ,2020
ISBN 978-7-115-54518-3
光刻巨人
雷吉梅克.人民邮电出版社,2020.
光刻巨人：ASML崛起之路
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