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题名:
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原子层沉积技术 / 陈蓉 ... [等] 著 , |
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ISBN:
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978-7-5772-1800-7 价格: CNY168.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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503页 图, 肖像 25cm |
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出版发行:
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出版地: 武汉 出版社: 华中科技大学出版社 出版日期: 2025 |
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内容提要:
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本书围绕原子层沉积技术,针对原子层沉积工艺、纳米结构可控制造方法、智能制造装备研发和应用等方面进行阐述。全书共分为9章。其中,第1章阐述了原子层沉积技术的基本原理与工艺;第2和3章分别介绍了原子层沉积过程、微纳米颗粒原子层沉积技术与装备;第4章对选择性原子层沉积工艺进行了介绍;第5-9章讨论了原子层沉积技术在光致发光、电致发光、柔性封装、催化与能源材料等领域的应用,是前述章节理论方法的验证与拓展。 |
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主题词:
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原子 沉积 |
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中图分类法:
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TB3 版次: 5 |
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其它题名:
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从制造原理到装备应用 |
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主要责任者:
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陈蓉, 著 |
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主要责任者:
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单斌 著 |
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主要责任者:
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曹坤 著 |
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附注:
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“十四五”国家重点出版物出版规划项目 国家科学技术学术著作出版基金资助 |
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责任者附注:
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陈蓉,1978年8月出生,华中科技大学机械科学与工程学院教授、博导.华中科技大学柔性电子研究中心副主任,中组部首批“青年千人计划”入选者,教育部“新世纪优秀人才支持计划”入选者。国家重大科学研究计划——青年科学家专题项目负责人。围绕着原子层沉积、纳米颗粒制备、薄膜工艺与设备开发,承担了多项新能源与微电子相关项目的研究工作,是选择性原子层沉积技术研究的先驱者之一。在AdvancedMaterials、Energy&EnvironmentalScience、ACSNano等国际知名期刊上发表论文50余篇;申请微纳制造领域发明专利20余项,包括5项美国专利、3项国际专利。美国劳伦斯一伯克利国家实验室开放基金特邀专家评审组成员,并担任美国NSF基金评委,ScientificReports编委,以及ACSNano、AppliedPhysicsLetters、JournalofAppliedPhvsics等国际权威期刊审稿人。 |