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题名:
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简明光刻手册 / 王云翔著 , |
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ISBN:
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978-7-5661-4888-9 价格： CNY98.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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373页 图(部分彩图),肖像 29cm |
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出版发行:
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出版地： 哈尔滨 出版社： 哈尔滨工程大学出版社 出版日期： 2025 |
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内容提要:
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本书以简明易懂的方式,全面系统地介绍了光刻技术的基础理论、核心工艺、关键材料以及相关应用。本书内内容涵盖了光刻技术的多个方面，主要包括:光刻技术概述。光刻基本工艺步骤。光刻胶：深入探讨了光刻胶的存储、成分与功能、分类与选择、参数指标以及特殊的光刻胶和光刻胶的去除方法。光刻相关工艺。 |
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主题词:
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光刻系统 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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王云翔 著 |
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附注:
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研材微纳 博研微纳 美图半导体 |