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题名:
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用 / 韦亚一著 , |
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ISBN:
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978-7-03-048268-6 价格： CNY359.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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xv, 558页, [20] 页图版 图 (部分彩图) 25cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2016 |
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内容提要:
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本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。 |
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主题词:
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超大规模集成电路 光刻系统 |
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中图分类法:
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TN47 版次： 5 |
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主要责任者:
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韦亚一 著 |