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题名:
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微纳集成电路工艺技术 / 戴显英主编 , |
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ISBN:
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978-7-5606-7777-4 价格： CNY36.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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216页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 西安 出版社： 西安电子科技大学出版社 出版日期： 2025 |
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内容提要:
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本书共10章。第1章介绍集成电路制造的器件与工艺仿真基础, 第2章至第7章介绍集成电路制造的薄膜制备、离子注入、光刻、刻蚀、金属化、化学机械平坦化等基本工艺, 第8章介绍阱工艺、浅槽隔离工艺、栅极工艺、源漏工艺、金属硅化物工艺、接触孔与通孔工艺和金属互连工艺等集成电路制造的工艺集成技术, 第9章至第10章介绍先进封装工艺技术、品质认证及智慧制造系统等集成电路制造后端工艺。 |
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主题词:
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集成电路工艺 研究生 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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戴显英 主编 |