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题名:
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Ⅲ族氮化物薄膜生长与测试 / 王文樑编著 , |
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ISBN:
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978-7-03-082648-0 价格： CNY98.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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231页 彩图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2025 |
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内容提要:
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本书聚焦国家半导体战略, 系统论述了宽禁带半导体核心材料Ⅲ族氮化物的基础理论、制备技术与性能评估方法。第一篇从晶体结构、物理化学特性出发, 解析材料在光电子与高功率器件中的应用机理; 第二篇介绍了化学/物理气相沉积技术原理与工艺优化策略; 第三篇阐述了光学、电学等性能多维度表征方法。同时, 本书结合了研究团队创新成果, 为学科发展和产业升级注入新动能。 |
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主题词:
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氮化物 薄膜技术 |
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中图分类法:
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TB43 版次： 5 |
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主要责任者:
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王文樑 编著 |