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题名:
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纳米层状二硫化钼制备与应用 / 王快社, 杨帆, 胡平著 , |
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ISBN:
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978-7-03-081136-3 价格： CNY88.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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129页 图 25cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2025 |
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内容提要:
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本书介绍了作者团队近年来在纳米层状二硫化钼“氧化插层-爆炸/还原”和锂离子插层剥离新技术及其合成机理方面的研究工作。团队系统研究了纳米层状二硫化钼的可控制备，解决了其剥离效率低的难题，建立了二硫化钼氧化插层分子结构演变模型，揭示了插层二硫化钼爆炸及还原剥离机理，并提出了高密度催化位点、高电荷转移效率协同提高催化析氢性能新方法。本书共6章，内容包括：纳米层状二硫化钼材料研究进展和发展趋势、插层-爆炸法剥离制备纳米层状二硫化钼、插层-还原法剥离制备纳米层状二硫化钼、纳米层状二硫化钼复合材料电催化析氢性能、纳米层状二硫化钼复合材料磁性能、锂离子插层法剥离制备纳米多孔二硫化钼基复合材料。 |
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主题词:
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纳米 二硫化 |
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中图分类法:
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TB383 版次： 5 |
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主要责任者:
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王快社 著 |
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主要责任者:
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杨帆 著 |
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主要责任者:
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胡平 著 |