|
题名:
|
衍射极限附近的光刻工艺 / 伍强 ... [等] 编著 , |
|
ISBN:
|
978-7-302-67611-9 价格： CNY368.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
22, 672页 图 (部分彩图) 27cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2024.11 |
|
内容提要:
|
本书以光刻工艺为主线, 有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起, 给读者一个整体的图景。 |
|
主题词:
|
光刻设备 研究 |
|
中图分类法:
|
TN305.7 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
伍强 编著 |
|
主要责任者:
|
胡华勇 编著 |
|
主要责任者:
|
何伟明 编著 |
|
版次:
|
2版 |
|
附注:
|
2019年国家出版基金项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目 |