题名:
光刻技术   / 林本坚著 , 严天宏译
ISBN:
978-7-122-45151-4 价格： CNY198.00
语种:
chi
载体形态:
369页 图 (部分彩图) 27cm
出版发行:
出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2024.8
内容提要:
本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识, 学习曝光系统和图像形成的基础理论, 并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识; 读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况, 加强对半导体制造技术的认知; 还添加了接近印刷方面的全新材料, 以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料, 以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。 
主题词:
光刻系统  
中图分类法:
TN305.7 版次： 5
主要责任者:
林本坚 著
次要责任者:
严天宏 译
责任者附注:
林本坚 (Burn J. Lin), 博士, 是台湾清华大学 (清大) 特聘研究讲座教授和台积电 (TSMC)-清大联合研发中心主任。2000年加入台积电担任资深处长, 2011年至2015年担任副总经理和杰出科技院士。