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题名:
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先进计算光刻 / 李艳秋 ... [等] 著 , |
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ISBN:
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978-7-03-078124-6 价格： CNY130.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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233页 图 25cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2024 |
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内容提要:
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本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源，无法最佳匹配实际光刻系统之所需，导致增加工艺迭代时间的问题。 |
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主题词:
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集成电路工艺 电子束光刻 |
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中图分类法:
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TN405.98 版次： 5 |
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主要责任者:
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李艳秋 著 |
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主要责任者:
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马旭 著 |
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主要责任者:
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孙义钰 著 |
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附注:
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国家科学技术学术著作出版基金 |