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题名:
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光线跟踪算法技术 / (美)Kevin Suffern著 , 刘天慧译 |
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ISBN:
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978-7-302-24821-7 价格： CNY98.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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591页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2011 |
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内容提要:
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本书主要包括采样技术、投影视图、视见系统、景深、非线性投影、立体视觉、光照与材质、镜面反射、光泽反射、全局光照、透明度、阴影、环境遮挡、区域光照、光线与对象间的相交计算、对象变换、栅格技术以及纹理映射技术等内容。 |
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主题词:
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光学跟踪 算法理论 |
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中图分类法:
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TP72 版次： 5 |
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主要责任者:
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苏费恩 著 |
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次要责任者:
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刘天惠 译 |