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题名:
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微纳尺度制造工程 / (美)斯蒂芬 A. 坎贝尔著 , 严利人，张伟等译 |
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ISBN:
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978-7-121-13428-9 价格： CNY83.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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19,640页 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 2011 |
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内容提要:
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本书介绍了微电子制造科学原理与工程技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺，不仅介绍了它的物理和化学原理，还描述了用于集成电路制造的工艺设备。 |
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主题词:
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微电子技术 生产工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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坎贝尔 著 |
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次要责任者:
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严利人 译 |
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次要责任者:
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张伟 译 |
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附注:
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国外电子与通信教材系列 |
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索书号:
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1 |