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题名:
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集成电路与等离子体装备 / 赵晋荣等主编 , |
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ISBN:
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978-7-03-077546-7 价格： CNY168.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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282页 彩图 25cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2024 |
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内容提要:
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本书主要介绍了集成电路中与等离子体设备相关的内容，具体包括集成电路简史、分类和发展方向以及面临的挑战，气体放电的基本原理和典型应用、等离子体刻蚀工艺与设备、等离子体表面处理技术与设备、物理气相沉积设备与工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺与设备、高密度等离子体化学气相沉积工艺与设备、炉管设备与工艺等。 |
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主题词:
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集成电路 |
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主题词:
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等离子刻蚀 设备 |
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中图分类法:
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TN4 版次： 5 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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赵晋荣 主编 |