|
题名:
|
产业专利分析报告 / 国家知识产权局学术委员会组织编写 , |
|
ISBN:
|
978-7-5130-8195-5 价格： CNY70.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
149页, 6页图版 图 26cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 知识产权出版社 出版日期： 2022 |
|
内容提要:
|
本书是高端光刻机领域的专利分析报告, 从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报, 主要技术分支专利等方面入手, 充分结合相关数据展开分析, 得出扎实的研究结论和相关建议。主要内容包括: 概况、专利壁垒指数模型研究、高端光刻机全球竞争情报分析、EUV光源专利分析、投影物镜专利分析等。 |
|
主题词:
|
专利 研究报告 世界 |
|
主题词:
|
光刻设备 专利 世界 |
|
中图分类法:
|
G306.71 版次： 5 |
|
中图分类法:
|
TN305.7 版次： 5 |
|
其它题名:
|
高端光刻机 |
|
主要团体责任者:
|
国家知识产权局学术委员会 组织编写 |