|
题名:
|
光学元件磁流变抛光理论与关键技术 / 石峰，宋辞著 , |
|
ISBN:
|
978-7-118-12997-7 价格： CNY128.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
20,292页 图，照片 24cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 2023 |
|
内容提要:
|
本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第1-6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行研究和实验验证；第7-12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究。 |
|
主题词:
|
光学元件 抛光 |
|
中图分类法:
|
TH74 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
石峰 著 |
|
主要责任者:
|
宋辞 著 |
|
附注:
|
国防科技图书出版基金 |