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题名:
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半导体先进光刻理论与技术 / (德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著 , 李思坤译 |
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ISBN:
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978-7-122-43276-6 价格： CNY198.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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304页 图，照片 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2023 |
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内容提要:
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本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。 |
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主题词:
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半导体光电器件 光刻设备 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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爱德曼 著 |
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次要责任者:
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李思坤 译 |