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题名:
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光学光刻和极紫外光刻 / (德) 安迪·爱德曼著 , 高伟民, 徐东波, 诸波尔译 |
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ISBN:
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978-7-5478-5720-5 价格： CNY195.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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316页 彩图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术出版社 出版日期： 2023 |
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内容提要:
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本书是一本最新的光刻技术专著, 内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上, 涵盖了全面又丰富的内容; 在论述光刻技术的物理机制和数学模型时, 采用了完整而不繁琐的方法, 增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后, 还专门开辟章节, 介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点, 揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点, 它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 |
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主题词:
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光学 光刻系统 |
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主题词:
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紫外线 光刻系统 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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埃德曼 著 |
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次要责任者:
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徐东波 译 |
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次要责任者:
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诸波尔 译 |
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次要责任者:
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高伟民 译 |
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附注:
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元基石 |
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责任者附注:
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安迪·爱德曼(Andreas Erdmann),国际光学工程学会(SPIE)会士,德国弗劳恩霍夫协会(Fraunhofer)下属集成系统和元器件技术研究所(IISB)计算光刻和光学部门的负责人。拥有25年以上的光学光刻和极紫外光刻的研究经验,为多个先进光刻仿真软件的发展做出了关键贡献,其中包括光刻仿真软件Dr.LiTHO的研发。 |
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责任者附注:
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高伟民,阿斯麦公司(ASML)中国区技术总监,资深的光刻技术专家。获浙江大学光学工程学士学位和比利时鲁汶大学物理学硕士、博士学位。曾任职于比利时微电子研发中心(IMEC)和美国新思科技(Synopsys)。他专注先进光刻技术研发20多年,参与了从0.13μm到5nm节点的多世代先进光刻技术开发,拥有16年极紫外光刻技术研发的丰富经验。技术专长涵盖了广泛的光刻领域,包括光刻工艺开发、成像技术、分辨率增强技术、计算光刻、先进掩模和设计工艺协同优化技术(DTCO)等。 徐东波,比利时微电子研发中心(IMEC)研究员。 诸波尔,阿斯麦公司(ASML)中国区计算光刻高级工程师、项目主管。 |
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责任者附注:
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责任者规范汉译姓: 埃德曼 |