题名:
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硅基集成芯片制造工艺原理 / 李炳宗 ... [等] 编著 , |
ISBN:
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978-7-309-14995-1 价格: CNY298.00 |
语种:
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chi |
载体形态:
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21, 862页 图 27cm |
出版发行:
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出版地: 上海 出版社: 复旦大学出版社 出版日期: 2021 |
内容提要:
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本书在阐述集成芯片制造主要工艺技术的同时, 将结合集成芯片制造工艺演进道路, 讨论集成芯片技术的独特发展规律, 着力分析各种工艺的物理、化学原理与规律。本书将特别关注进入21世纪以来正在发展的集成芯片制造技术的新结构、新材料、新工艺和新趋势, 介绍包括高密度超微型立体晶体管和纳米CMOS等集成器件的典型结构与制造工艺。 |
主题词:
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硅基材料 集成芯片 |
中图分类法:
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TN43 版次: 5 |
主要责任者:
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李炳宗 编著 |
主要责任者:
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茹国平 编著 |
主要责任者:
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屈新萍 编著 |
附注:
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上海市文教结合“高校服务国家重大战略出版工程”资助项目 |
责任者附注:
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李炳宗, 复旦大学微电子学院退休教授、博导。茹国平, 复旦大学微电子学院教授、博导。屈新萍, 复旦大学微电子学院教授、博导。 |