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题名:
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光刻机像质检测技术 / 王向朝, 戴凤钊...[等]著 , |
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ISBN:
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978-7-03-067354-1 价格： CNY248.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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2册 (529, 481页) 彩图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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集成电路产业是国民经济和社会发展的战略性、基础性和先导性产业，是培育发展战略性新兴产业、推动信息化和工业化深度融合的核心与基础，是保障国家信息安全的重要支撑。光刻技术是人类迄今为止所能达到的精度最高的微纳加工技术，是集成电路技术发展的先导，是信息革命的基石。高端光刻机是集成电路产业中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，是集成电路制造工艺中唯一能产生高分辨率图形的设备。像质是影响高端光刻机性能的最关键因素，而像质检测技术是保证像质的核心技术。本书(上下册)共分为11章，对高端光刻机各种像质检测技术从理论、技术以及应用等方面进行了全面论述，内容涵盖了像质参数检测的基础理论、初级像质参数检测、波像差检测、偏振像差检测以及极紫外光刻波像差检测等。作为对像质检测技术的补充，本书也对这些检测技术研发和应用过程中所依托的关键技术，如光刻机对准、调平调焦、工件台位置测量等技术进行了阐述。 |
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主题词:
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光刻设备 影象质量 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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王向朝 著 |
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主要责任者:
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戴凤钊 著 |
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附注:
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国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |