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题名:
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光刻机像质检测技术 / 王向朝, 戴凤钊等著 , |
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ISBN:
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978-7-03-067355-8 价格： CNY228.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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xi, 481页 图 (部分彩图) 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术, 详细介绍了本团队提出的系列新技术, 涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术, 包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主, 也介绍了投影物镜的离线像质检测技术, 涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。 |
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主题词:
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光刻设备 影象质量 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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王向朝 著 |
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主要责任者:
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戴凤钊 著 |