题名:
计算光刻与版图优化
/ 韦亚一 ... [等] 著 ,
ISBN:
978-7-121-40226-5 价格： CNY79.00
语种:
chi
载体形态:
X, 238页 图 26cm
出版发行:
出版地： 北京 出版社：
电子工业出版社
出版日期： 2021
内容提要:
本书共7章, 首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍, 接着介绍集成电路物理设计 (版图设计) 的全流程, 然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计, 最后介绍设计与工艺协同优化。
主题词:
集成电路工艺
电子束光刻
中图分类法:
TN405.98 版次： 5
主要责任者:
韦亚一
著