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题名:
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衍射极限附近的光刻工艺 / 伍强等编著 , |
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ISBN:
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978-7-302-53742-7 价格： CNY168.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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19, 653页 彩图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2020 |
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内容提要:
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本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。 |
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主题词:
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光刻设备 研究 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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伍强 编著 |
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附注:
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国家出版基金项目 2019年国画出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目 |
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索书号:
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3 |