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题名:
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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能 / 肖剑荣著 , |
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ISBN:
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978-7-5170-7439-7 价格： CNY57.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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173页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 中国水利水电出版社 出版日期： 2019 |
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内容提要:
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磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系, 探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。 |
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主题词:
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铜 金属薄膜 |
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主题词:
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铜 金属薄膜 |
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中图分类法:
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TF811 版次： 5 |
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主要责任者:
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肖剑荣 著 |
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索书号:
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3 |
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索书号:
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3 |