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题名:
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硅MEMS工艺与设备基础 / 阮勇, 尤政编著 , |
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ISBN:
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978-7-118-11740-0 价格： CNY160.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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xxxi, 463页, [8] 页图版 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 2018 |
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内容提要:
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本书主要围绕硅基MEMS加工技术中涉及的体硅工艺清洗、光刻、氧化扩散、刻蚀、键合、检测封装。全书共十章：第一章 湿法腐蚀讨论硅和其它材料的腐蚀、去胶、剥离（金属图形化）；第二章分析薄膜制备和讨论热氧化、CVD、PVD和离子注入技术；第三章集中分析介绍光刻技术，特别针对MEMS器件中常用的接近/接触式光刻和双面光刻，并分析光刻中涉及的其它技术；第四章讨论干法刻蚀技术并分析了各种典型的材料刻蚀；第五章分析介绍MEMS工艺中常用的检测、测量方法和技术；第六章重点介绍体硅工艺中较为常用的键合技术以及封装；第七章介绍在MEMS环境和设备中的真空技术；第八章介绍了洁净环境水、电、气、空调的稳定与维护；第九章从器件制备的角度提出了硅基MEMS组合工艺。 |
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主题词:
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硅基材料 纳米材料 |
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中图分类法:
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TM38-39 版次： 5 |
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主要责任者:
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阮勇 编著 |
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主要责任者:
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尤政 编著 |
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附注:
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国防科技图书出版基金 |
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索书号:
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3 |
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索书号:
|
3 |