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题名:
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纹影与阴影技术 / (美) 加里·塞特尔著 , 叶继飞 ... [等] 译 |
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ISBN:
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978-7-118-11577-2 价格： CNY118.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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18, 338页, 7页图版 图, 肖像 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 2018 |
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内容提要:
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本书介绍了纹影与阴影技术的相关概念和具体应用。重点介绍了经典的托普勒纹影技术、大视场聚焦纹影技术、阴影技术，以及一些特种纹影技术和定量评价方法，介绍了纹影和阴影技术在应用过程中所遇到的系统配置、构成和成像等实际问题，最后举例说明了其在固体、液体和气体等多种不同场合和领域的具体应用。 |
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主题词:
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纹影显示 |
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中图分类法:
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O354 版次： 5 |
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其它题名:
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透明介质中的可视化现象 |
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主要责任者:
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塞特尔 著 |
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次要责任者:
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叶继飞 译 |
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次要责任者:
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文明 译 |
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次要责任者:
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徐徐 译 |
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责任者附注:
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加里·塞特尔 (G.S. Settles) (1949-)，田纳西州东部大烟山地区的一个农场里长大。获得航空航天专业理学博士学位。1989年被聘为宾州州立大学机械工程系教授，获首席研究院奖励。爱好广泛，获奖电影《寻找解决方案》《宇宙》等。 |
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索书号:
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3 |
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索书号:
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3 |