|
题名:
|
等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用 / 张海洋等编著 , |
|
ISBN:
|
978-7-302-48959-7 价格： CNY128.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
376页 图, 肖像 27cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2018 |
|
内容提要:
|
本书系统性回顾了过去半个世纪干法蚀刻技术的演变, 深入介绍了该技术的基本机理, 在逻辑产品和闪存产品中的具体应用以及对于逻辑电路可靠性影响的系统分析。同时针对特殊气体和特种材料的蚀刻应用进行了展望; 最后以高等过程蚀刻控制重要性及其在集成电路制造中应用的必要性结尾; |
|
主题词:
|
大规模集成电路 集成电路工艺 |
|
中图分类法:
|
TN405.98 版次： 5 |
|
中图分类法:
|
TN405.98 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
张海洋 编著 |
|
附注:
|
“十三五”国家重点图书出版规划项目 |
|
索书号:
|
2 |
|
索书号:
|
2 |