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题名:
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集成电路制造技术 / 杜中一著 , |
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ISBN:
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978-7-122-26284-4 价格： CNY35.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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172页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2016 |
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内容提要:
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本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。书中简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统地介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。本书以半导体硅材料集成电路制造为主, 兼顾化合物半导体材料集成电路制造。 |
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主题词:
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集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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杜中一 著 |
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索书号:
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5 |