题名:
薄膜技术与应用
/ 冯丽萍, 刘正堂编著 ,
ISBN:
978-7-5612-4739-6 价格： CNY39.00
语种:
chi
载体形态:
222页 图 26cm
出版发行:
出版地： 西安 出版社：
西北工业大学出版社
出版日期： 2016
内容提要:
本书为研究生高水平课程教材, 全书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积 (ALD) 镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。
主题词:
薄膜技术
研究生
中图分类法:
TB43 版次： 5
主要责任者:
冯丽萍
编著
主要责任者:
刘正堂
编著
索书号:
5