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题名:
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金刚石膜制备与应用 / 吕反修主编 , |
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ISBN:
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978-7-03-041822-7 价格： CNY238.00 |
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ISBN:
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978-7-03-041822-7 价格： CNY198.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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764页，[4] 页图版 图 25cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征，金刚石膜化学气相沉积理论，以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用，在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章，第一篇：金刚石膜的制备；第二篇：金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇：金刚石膜化学气相沉积理论；第四篇：金刚石膜的应用；第五篇：纳米金刚石膜制备与应用；第六篇：金刚石相关材料的制备与应用。 |
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主题词:
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类金刚石膜 研究 |
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中图分类法:
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TB43 版次： 5 |
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主要责任者:
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吕反修 主编 |
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附注:
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纳米科学与技术 国家出版基金项目 |
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索书号:
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1 |