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题名:
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半导体薄膜技术与物理 / 叶志镇 ... [等] 编著 , |
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ISBN:
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978-7-308-13910-6 价格： CNY36.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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237页 图, 肖像 26cm |
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出版发行:
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出版地： 杭州 出版社： 浙江大学出版社 出版日期： 2014.12 |
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内容提要:
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本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十一章。第一章概述了真空技术, 第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积等, 第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论, 第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。 |
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主题词:
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半导体薄膜技术 |
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中图分类法:
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TN304.055 版次： 5 |
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主要责任者:
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叶志镇 编著 |
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主要责任者:
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吕建国 编著 |
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主要责任者:
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吕斌 编著 |
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主要责任者:
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张银珠 编著 |
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版次:
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第2版 |
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索书号:
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5 |