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中图分类法:
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TN305.7 版次： |
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题名:
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Plasma etching : [ fundamentals and applications /] / , |
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出版发行:
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出版地： New York : 出版社： Oxford University Press, 出版日期： 1998. |
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载体形态:
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viii, 347 p. : ill. (some col.) ; 24 cm. |
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主题词:
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Semiconductors Etching. |
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主题词:
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Plasma etching. |
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主要责任者:
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Stansfield, Barry L. |
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索书号:
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1 |