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中图分类法:
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TN47-532 版次： |
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题名:
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Gate stack and silicide issues in silicon processing [ symposium held April 25-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A.] / , |
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出版发行:
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出版地： Cambridge 出版社： Cambridge University Press 出版日期： 2014 |
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载体形态:
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254 p ill 24 cm |
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主题词:
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Integrated circuits Ultra large scale integration |
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主题词:
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Silicides |
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主题词:
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Gate array circuits |
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主题词:
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Electric leakage |
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主要责任者:
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Clevenger, L. A. |
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索书号:
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1 |