|
题名:
|
薄膜技术与薄膜材料 / 石玉龙, 闫凤英编著 , |
|
ISBN:
|
978-7-122-22618-1 价格： CNY30.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
242页 图 21cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2015 |
|
内容提要:
|
本书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 |
|
主题词:
|
薄膜技术 研究 |
|
主题词:
|
薄膜 工程材料 |
|
中图分类法:
|
TB43 版次： 5 |
|
中图分类法:
|
TB383 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
石玉龙 编著 |
|
主要责任者:
|
闫凤英 编著 |
|
索书号:
|
5 |