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题名:
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纳米集成电路制造工艺 / 张汝京等编著 , |
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ISBN:
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978-7-302-36027-8 价格： CNY69.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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xiii, 433页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for anufacturing), 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
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主题词:
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纳米材料 集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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张汝京 编著 |
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责任者附注:
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张汝京, 于美国南方卫理公会大学 (Southern Methodist University) 取得电子工程博士学位。 |
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索书号:
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5 |