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题名:
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真空镀膜技术与设备 / 张以忱主编 , |
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ISBN:
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978-7-5024-6638-1 价格： CNY40.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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249页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 冶金工业出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜结构及蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析和检测技术等。重点介绍了近年来出现的一些镀膜方法与技术，以及真空镀膜机设计计算等方面的内容。 |
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主题词:
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真空技术 镀膜 |
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中图分类法:
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TN305.8 版次： 5 |
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主要责任者:
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张以忱 主编 |
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附注:
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普通高等教育“十二五”规划教材 |
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索书号:
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5 |