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题名:
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三维电子封装的硅通孔技术 / (美)刘汉诚(John H. Lau)著 , 秦飞，曹立强译 |
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ISBN:
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978-7-122-19897-6 价格： CNY148.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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390页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书系统讨论了用于电子、光电子和微机电系统(MEMS)器件的三维集成硅通孔(TSV)技术的最新进展和可能的演变趋势，详尽讨论了三维集成关键技术中存在的主要工艺问题和潜在解决方案。首先介绍了半导体工业中的纳米技术和三维集成技术的起源和演变历史，然后重点讨论TSV制程技术、晶圆减薄与薄晶圆在封装组装过程中的拿持技术、三维堆叠的微凸点制作与组装技术、芯片与芯片键合技术、芯片与晶圆键合技术、晶圆与晶圆键合技术、三维器件集成的热管理技术以及三维集成中的可靠性问题等，最后讨论了具备量产潜力的三维封装技术以及TSV技术的未来发展趋势。 |
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主题词:
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微电子技术 封装工艺 |
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中图分类法:
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TN405.94 版次： 5 |
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主要责任者:
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刘汉诚 著 |
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次要责任者:
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秦飞 译 |
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次要责任者:
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曹立强 译 |
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索书号:
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5 |