|
题名:
|
真空镀膜原理与技术
/
方应翠主编
,
|
|
ISBN:
|
978-7-03-039898-7
价格：
CNY38.00
|
|
语种:
|
chi
|
|
载体形态:
|
213页
图，照片
24cm
|
|
出版发行:
|
出版地：
北京
出版社：
科学出版社
出版日期：
2014
|
|
内容提要:
|
本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。
|
|
主题词:
|
真空技术
镀膜
|
|
中图分类法:
|
TN305.8
版次：
5
|
|
主要责任者:
|
方应翠
主编
|
|
索书号:
|
5
|