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题名:
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稀土高K栅介质材料 / 冀婷著 , |
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ISBN:
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978-7-118-09405-3 价格： CNY68.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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167页 图 21cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书主要介绍稀土高K栅介质材料Er203、Tm203薄膜的生长、结构及其特性，重点介绍了利用分子束外延方法获得超薄高K氧化物薄膜的方法，并运用多种手段对薄膜的生长过程、结构、电学特性及能带排列等进行了研究。本书较为全面、系统地介绍了Er203、Tm2 03作为高K栅介质候选材料的制备及相关物理性质。 |
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主题词:
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稀土金属 棚介质 |
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中图分类法:
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TG146.4 版次： 5 |
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主要责任者:
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冀婷 著 |
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主要责任者:
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徐闰 著 |
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主要责任者:
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朱燕艳 著 |
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主要责任者:
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方泽波 著 |
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索书号:
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3 |