|
题名:
|
光场中的原子分子及激光技术 / (美) 汪正民著 , |
|
ISBN:
|
978-7-03-033890-7 价格： CNY79.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
12, 334页, [1] 页图版 图 24cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 2012.04 |
|
内容提要:
|
本书系统论述了原子多光子电离的相关理论基础和研究方法, 详细讨论了用光电子成像装置测量光电子角分布来研究原子光电离的特征, 重点讲述了如何在实验上获得电子云影像并由此确定原子光离化参数以及研究奇偶字称跃迁过程的量子干涉。 |
|
主题词:
|
光电子技术 研究 |
|
主题词:
|
激光技术 研究 |
|
中图分类法:
|
TN2 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
汪正民 著 |