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题名:
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半导体晶片清洗 / (美) Werner Kern主编 , 陆晓东 ... [等] 译 |
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ISBN:
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978-7-121-17397-4 价格： CNY98.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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17, 350页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 2012 |
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内容提要:
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全书共分为五部分十三章: 第一部分介绍半导体晶片沾污类型、清洗技术的发展历程和演变, 以及芯片制造过程中硅片表面微量化学沾污的产生过程; 第二部分介绍各种湿法化学工艺技术的原理、工艺方法、工艺参数控制、清洗装置及应用实例; 第三部分介绍各种干法清洗工艺技术的原理、工艺方法、工艺参数控制、清洗装置及应用实例; 第四部分介绍清洗技术的分析和控制; 第五部分介绍清洗技术未来的发展趋势。讲解过程中, 本书既重视相关技术的背景知识介绍, 又以丰富的图表和数据形式详细剖析了各种清洗技术的原理和应用条件, 极大地方便了读者对各种清洗技术的了解和全面掌握。 |
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主题词:
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芯片 半导体材料 |
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中图分类法:
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TN304 版次： 5 |
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其它题名:
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科学、技术与应用 |
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主要责任者:
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克恩 著 |
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次要责任者:
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陆晓东 译 |
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次要责任者:
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伦淑娴 译 |
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责任者附注:
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责任者规范汉译姓: 克恩 |