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题名:
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MOS集成电路工艺与制造技术 / 潘桂忠编著 , |
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ISBN:
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978-7-5478-0980-8 价格： CNY85.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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489页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术出版社 出版日期： 2012.06 |
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内容提要:
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本书系统地介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺, 内容包括硅衬底与清洗、氧化、扩散、离子注入、外延、化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀、金属化与多层布线等。 |
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主题词:
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MOS集成电路 集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN432.05 版次： 5 |
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主要责任者:
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潘桂忠 编著 |