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题名:
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先进焦平面技术导论 / 何力, 杨定江, 倪国强等著 , |
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ISBN:
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978-7-118-07120-7 价格： CNY198.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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569页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 2011.01 |
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内容提要:
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本书以先进焦平面技术为主线, 在扼要概括国外研究历程和技术发展趋势的基础上, 着重介绍了作者近年对双色或双谱段红外焦平面芯片的数值设计、硅基碲镉汞和铝镓氮多层材料的生长工艺技术等的最新研究结果。 |
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主题词:
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芯片 设计 |
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中图分类法:
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TN43 版次： 4 |
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主要责任者:
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何力 著 |
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主要责任者:
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杨定江 著 |
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主要责任者:
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倪国强 著 |
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附注:
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国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |