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题名:
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真空镀膜技术 / 张以忱等编著 , |
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ISBN:
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978-7-5024-5020-5 价格： CNY59.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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12,558页 21cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 冶金工业出版社 出版日期： 2009 |
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内容提要:
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本书系统地阐述了真空镀膜技术的基本慨念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺，尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术，如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等；还详细介绍了薄膜沉积及膜厚的监控与测量以及表面与薄膜分析检测技术。 |
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主题词:
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真空技术 镀膜 |
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中图分类法:
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TN305.8 版次： 4 |
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主要责任者:
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张以忱 编著 |