|
题名:
|
完美曝光 / (美)Rick Sammon著 , 张波译 |
|
ISBN:
|
978-7-115-21580-2 价格： CNY65.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
14, 215页 图 (部分彩图) 26cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 人民邮电出版社 出版日期： 2010 |
|
内容提要:
|
本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等，并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。 |
|
主题词:
|
曝光 摄影技术 |
|
中图分类法:
|
J41 版次： 4 |
|
主要责任者:
|
沙蒙 著 |
|
次要责任者:
|
张波 译 |
|
责任者附注:
|
责任者Sammon规范汉译姓: 沙蒙 |