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题名:
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International Symposium on Silicon Molecular Beam Epitaxy (3rd : 1989 : Strasbourg) / ed. by E. Kasper, E. H. C. Parker , |
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ISBN:
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0-444-88620-6 价格： ￥21.10 |
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语种:
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eng |
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载体形态:
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367 p. |
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出版发行:
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出版地： Amsterdam 出版社： North-Holland 出版日期： 1989 |
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其它题名:
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Silicon molecular beam epitaxy |
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主要责任者:
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Kasper |
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主要责任者:
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Parker |
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主要团体责任者:
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International Symposium on Silicon Molecular Eputaxy |
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索书号:
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1 |